在半導(dǎo)體材料硅的表面清潔處理，硅片機(jī)械加工后表面損傷層的去除、直接鍵合硅片的減薄、硅中缺陷的化學(xué)腐蝕等方面要用到硅的化學(xué)腐蝕過(guò)程。下面討論硅片腐蝕工藝的化學(xué)原理和拋光工藝的化學(xué)原理。

　　硅片腐蝕工藝的化學(xué)原理

　　硅表面的化學(xué)腐蝕一般采用濕法腐蝕，硅表面腐蝕形成隨機(jī)分布的微小原電池，腐蝕電流較大，一般超過(guò)100A/cm2，但是出于對(duì)腐蝕液高純度和減少可能金屬離子污染的要求，目前主要使用氫氟酸（HF），硝酸（HNO3）混合的酸性腐蝕液，以及氫氧化鉀（KOH）或氫氧化鈉（NaOH）等堿性腐蝕液。現(xiàn)在主要用的是HNO3-HF 腐蝕液和NaOH 腐蝕液。下面分別介紹這兩種腐蝕液的腐蝕化學(xué)原理和基本規(guī)律。

　　1.HNO3-HF 腐蝕液及腐蝕原理

　　通常情況下，硅的腐蝕液包括氧化劑（如HNO3）和絡(luò)合劑（如HF）兩部分。其配置為：濃度為70%的HNO3 和濃度為50%的HF 以體積比10～2:1，有關(guān)的化學(xué)反應(yīng)如下：

　　3Si+4HNO3=3SiO2↓+2H2O+4NO↑

　　硅被氧化后形成一層致密的二氧化硅薄膜，不溶于水和硝酸，但能溶于氫氟酸，這樣腐蝕過(guò)程連續(xù)不斷地進(jìn)行。有關(guān)的化學(xué)反應(yīng)如下：

　　SiO2+6HF=H2［SiF6］+2H2O

　　2.NaOH 腐蝕液

　　在氫氧化鈉化學(xué)腐蝕時(shí)，采用10％～30％的氫氧化鈉水溶液，溫度為 80～90℃，將硅片浸入腐蝕液中，腐蝕的化學(xué)方程式為

　　Si＋H2O+2 NaOH =Na2SiO3+2H2↑

　　對(duì)于太陽(yáng)電池所用的硅片化學(xué)腐蝕，從成本控制，環(huán)境保護(hù)和操作方便等因素出發(fā)，一般用氫氧化鈉腐蝕液腐蝕深度要超過(guò)硅片機(jī)械損傷層的厚度，約為20～30um。

　　拋光工藝的化學(xué)原理

　　拋光分為兩種：機(jī)械拋光和化學(xué)拋光，機(jī)械拋光速度慢，成本高，而且容易產(chǎn)生有晶體缺陷的表面。現(xiàn)在一般采用化學(xué)-機(jī)械拋光工藝，例如銅離子拋光、鉻離子拋光和二氧化硅-氫氧化鈉拋光等。

　　1. 銅離子拋光

銅離子拋光液由氯化銅、氟化銨和水，一般以質(zhì)量比60:26:1000 組成，調(diào)節(jié)PH=5.8 左右，或者以質(zhì)量比80:102.8:1000，其反應(yīng)原理如下：

　　Si+2CuCl2+6NH4F=（NH4）2［SiF6］+4NH4Cl+2Cu

　　銅離子拋光一般在酸性（pH 為5～6）條件下進(jìn)行，當(dāng)pH﹥7 時(shí)，反應(yīng)終止，這是因?yàn)閜H=7 時(shí)銅離子與氨分子生成了穩(wěn)定的絡(luò)合物-銅氨絡(luò)離子，這時(shí)銅離子大大減少，拋光作用停止了。拋光反應(yīng)速度很快，為防止發(fā)生腐蝕，取片時(shí)不能在表面殘留拋光液，應(yīng)立即進(jìn)行水拋，也可以在取片前進(jìn)行稀硝酸漂洗，可以再洗一次，防止銅離子污染。

　　2.鉻離子拋光

　　鉻離子拋光液由三氧化二鉻、重鉻酸銨和水一般以質(zhì)量比1:3：100 組成，其反應(yīng)原理如下：

　　3Si+2Cr2O72-+28H+=3Si4++4Cr3++14H2O

　　三氧化二鉻不溶于水，對(duì)硅表面進(jìn)行研磨，重鉻酸銨能不斷地對(duì)硅表面進(jìn)行氧化腐蝕，與三氧化二鉻的機(jī)械研磨作用相結(jié)合，進(jìn)行拋光。

　　3.二氧化硅-氫氧化鈉拋光法

　　二氧化硅-氫氧化鈉拋光配置方法有三種：

　　（1）將三氯氫硅或四氯化硅液體用氮?dú)鈹y帶通入到氫氧化鈉溶液中，產(chǎn)生的沉淀在母液中靜置，然后把上面的懸浮液輕輕倒出，并調(diào)節(jié)pH 值為9.5～11。其反應(yīng)如下：

　　SiCl4+4NaOH=SiO2↓+4NaCl+2H2O

　　SiHCl3+3NaOH=SiO2↓+3NaCl+H2O +H2↑

　　（2）也可以利用制備多晶硅的尾氣或硅外延生長(zhǎng)時(shí)的廢氣生產(chǎn)二氧化硅微粒。反應(yīng)如下：

　　SiCl4+4H2O=H2SiO3↓+4HCl

　　H2SiO3=SiO2+H2O

　　（3）用工業(yè)二氧化硅粉和水以質(zhì)量比為150:1000 配置，并用氫氧化鈉調(diào)節(jié)pH 值為9.5～11。拋光液的pH 值為9.5～11 范圍內(nèi)，pH 值過(guò)低，拋光很慢，PH 值過(guò)高產(chǎn)生較強(qiáng)的腐蝕作用，硅片表面出現(xiàn)腐蝕坑。