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離子化方式

關(guān)鍵詞 離子化|2011-06-29 14:07:47|基礎(chǔ)知識|來源 中國磨料磨具網(wǎng)
摘要 自從直流電離子鍍出現(xiàn)以來,隨著電真空技術(shù)的發(fā)展,新的離子鍍方法和設(shè)備不斷出現(xiàn),按照離子化方式分類,離子鍍方法有直流放電法、高頻放電法、空心陰極型電子束法、熱電子活化法、多陰極活化法...
  自從直流電離子鍍出現(xiàn)以來,隨著電真空技術(shù)的發(fā)展,新的離子鍍方法和設(shè)備不斷出現(xiàn),按照離子化方式分類,離子鍍方法有直流放電法、高頻放電法、空心陰極型電子束法、熱電子活化法、多陰極活化法、絡(luò)離子束法、活性反應(yīng)法、真空電弧法等。
  除一般離子鍍外,還有一種特殊的離子鍍法——活性反應(yīng)離子鍍。該法實質(zhì)上不屬于PVD法,而是等離子CVD法,可以通過活化反應(yīng)制取TIC、TIN等硬質(zhì)化合物膜層,還可以制取金剛石或立方氮化硼薄膜。后者屬于制造超硬材料的一種新方法——氣相薄膜生長法。
  

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