磨削和研磨等磨料處理是半導(dǎo)體芯片加工過(guò)程中的一項(xiàng)重要工藝，它主要是應(yīng)用化學(xué)研磨液混配磨料的方式對(duì)半導(dǎo)體表面進(jìn)行精密加工，但是研磨會(huì)導(dǎo)致芯片外表的完整性變差。因而，拋光的一致性、均勻性和外表粗糙度對(duì)生產(chǎn)芯片來(lái)說(shuō)是十分重要的。拋光和研磨在半導(dǎo)體生產(chǎn)中都起到重要性的作用。

一、研磨與拋光的差異

研磨運(yùn)用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，經(jīng)過(guò)研具與工件在一定壓力下的相對(duì)運(yùn)動(dòng)對(duì)加工外表進(jìn)行的精整加工。研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的外表形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐 面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其他型面。

拋光是運(yùn)用機(jī)械、化學(xué)或電化學(xué)的效果，使工件外表粗糙度下降，以取得亮光、平整外表的加工辦法。

兩者的首要差異在于：拋光到達(dá)的外表光潔度要比研磨更高，并且可以選用化學(xué)或許電化學(xué)的辦法，而研磨根本只選用機(jī)械的辦法，所運(yùn)用的磨料粒度要比拋光用的更粗，即粒度大。故生產(chǎn)芯片，研磨、拋光都是必不可少的。

二、研磨處理

運(yùn)用硬度比被加工資料更高的微米級(jí)顆粒，在硬質(zhì)研磨盤(pán)效果下產(chǎn)生微切削，實(shí)現(xiàn)被加工芯片外表的微量資料去除，使工件的尺寸精度到達(dá)要求。

磨料：研磨液一般運(yùn)用1微米以上顆粒由外表活性劑、PH調(diào)節(jié)劑、分散劑等組分組成，各組分發(fā)揮著不同的效果。

研磨液的效果：研磨液少量滴入滾筒內(nèi)被水?dāng)噭蚝螅诠庹麜r(shí)會(huì)粘附在零件與磨料的外表，其效果如下： ①軟化效果：即對(duì)金屬外表氧化膜的化學(xué)作用，使其軟化，易于從外表研磨除掉，以進(jìn)步研磨功率。 ②光滑作用：象研磨光滑油相同，在研磨塊和金屬零件之間起光滑效果，然后得到光潔的外表。 ③洗刷效果：像洗刷劑相同，能除掉金屬零件外表的油污。 ④防銹效果：研磨加工后的零件，未清洗前在短時(shí)間 內(nèi)具有一定的防銹效果。 ⑤緩沖效果：在光整加工運(yùn)轉(zhuǎn)中，與水一起攪動(dòng)，會(huì)緩解零件之間的相互碰擊。

三、拋光處理

運(yùn)用微細(xì)磨料的物理研磨和化學(xué)腐蝕，在軟質(zhì)拋光布輔佐效果下，未取得光滑外表，減小或消除加工變質(zhì)層，然后取得外表高質(zhì)量的加工辦法。

拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，拋光液具有良好的去油污，防銹，清洗和長(zhǎng)臉性能，并能使金屬制品顯露出實(shí)在的金屬光澤。性能穩(wěn)定、無(wú)毒，對(duì)環(huán)境無(wú)污染等優(yōu)點(diǎn)。

由此可見(jiàn)，不管是研磨液還是拋光液在對(duì)半導(dǎo)體生產(chǎn)研磨拋光處理中都是起到重要的作用。其不僅能提高研磨速率、好的平整度、高的表面均一性，還有利于后續(xù)清洗，使得研磨粒子不會(huì)殘留在粒子外表。

隨著半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展，研磨拋光液的需求也在增加，因此，相關(guān)產(chǎn)品生產(chǎn)企業(yè)更要不斷的開(kāi)發(fā)適應(yīng)新要求新工藝的新型研磨液和拋光液，企業(yè)不管在生產(chǎn)和研制，還是對(duì)研磨液和拋光液的檢測(cè)方面都需要更加的專業(yè)。英格爾集團(tuán)，CMA/CNAS資質(zhì)機(jī)構(gòu)，成立于2000年，20年知名檢測(cè)機(jī)構(gòu)，具有專業(yè)的工程師團(tuán)隊(duì)，高端的設(shè)備儀器，以及豐富的項(xiàng)目經(jīng)驗(yàn),可為企業(yè)提供檢測(cè)、研發(fā)開(kāi)發(fā)、配方還原、配方分析等服務(wù)。